Nová řešení významně mění možnosti ochrany osob nejen před viry a bakteriemi

Masky, filtry, respirátory a roušky… Už více než rok jsou různé ochrany dýchacích cest běžnou součástí našeho každodenního života a mohlo by se tak zdát, že nelze nic nového vymyslet.

Opak dokazují výzkumníci v projektu PRE SEED fond II VŠB – Technické univerzity Ostrava. Jejich reaktorový filtr a adaptivní rouška vnáší do problematiky zcela nové přístupy.

Společným úkolem expertů je zefektivnit transfer nových technologií a poznatků mezi univerzitou a aplikační sférou, což je i hlavním cílem tříletého projektu podpořeného Technologickou agenturou ČR v Programu GAMA 2 částkou přesahující 20 mil. Kč. Dva dílčí projekty odborníků VŠB – Technické univerzity Ostrava přinesly hned několik řešení, která významně a progresivně mění možnosti ochrany osob nejen před viry a bakteriemi.

Prvním zajímavým výsledkem je reaktorový filtr, který vlastně filtrem není, protože nefiltruje, nezachycuje viry a bakterie, ale likviduje je pomocí záření. Jeho výhodou je, že umožňuje snadnější dýchání. „Měl by fungovat na jakoukoli masku, polomasku nebo cokoli, co má standardizovaný závit, kde v podstatě jde filtr namontovat a už se přes něj může dýchat. Jediné, co je nutné, je dobíjet baterii,” popisuje Roman Fojtík, vedoucí projektu. Životnost filtru je 10000 hodin a jeho revolučnost (tj. pokročilost technologie) je taková, že v současnosti nemáme ani normy pro jeho certifikaci.

Vzniklá řešení významně mění možnosti ochrany osob nejen před viry a bakteriemi.

Výsledkem druhého dílčího projektu je ochranná maska vyrobená na míru uživateli. Maska má pokročilé filtry, které pomocí fotokatalýzy likvidují viry a bakterie v obou směrech – tedy při výdechu i nádechu, a navíc se samy čistí a regenerují při působení denního světla. Jde o adaptabilní polomasku s baktericidními a virucidními nanofiltry s permanentní regenerací působením denního světla, jejíž hlavní částí je filtr na bázi nanočástic g-C3N4 (grafitový nitrid uhlíku). Jde o velmi slibný materiál, který díky svým nejen fotokatalytickým, ale i fotoelektronickým vlastnostem má uplatnění v řadě oborů. Technologie vytvoření těchto filtračních nanostruktur, což je klíčová část řešení, je chráněna licencí. Další velkou výhodou je vytvoření masky na míru daného obličeje.

„3D skenování tváře umožní vyrobit masku s dokonalou přilnavostí na obličej konkrétní osoby, tedy zvýšit její funkčnost. Toto řešení umožní použít technologii nejen pro ochranu před viry a bakteriemi, ale i pro ochranu před prachovými částicemi nebo před toxickými látkami,“ říká řešitel projektu Marek Pagáč, Centrum 3D tisku Protolab, Fakulta strojní, VŠB-TU Ostrava.

Převzato z magazínu TA.Di vydávaném Technologickou agenturou ČR, autor: Leoš Kopecký




• Témata: Inovace a startupy
• Oblasti podnikání: Věda, výzkum a vývoj
• Teritorium: Česká republika